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PVD离子镀膜与真空蒸发镀膜比较存在的优点

PVD离子镀膜与真空蒸发镀膜比较存在的优点

编辑:betway必威官网编辑????来源:本站原创????发布时间:2018-03-26T20:49:27????浏览量:
离子镀膜(PVD 镀膜)技术其具体的原理主要是指,在真空的环境下,运用大电流、低电压的电弧放电技术,通过合理运用气体放电,即可促使靶材迅速蒸发,蒸发气体与物质均能够被迅速电离,再通过对电场的加速,从而促使各种反应产物和蒸发物质能够大量聚集在工件之上。PVD 离子镀膜因其所具备的各项特点,其与真空蒸发镀膜比较,存在以下优点:
(1)离子具有较好的绕射性能,可对各种复杂的镀形状工件进行处理;
(2)工件与膜层表面具有较强的结合力,故具有更高的耐磨性和持久性;
(3)其所能够镀膜的种类非常繁多;
(4)膜层具有较快的沉积速率,并且有着较高的生产效率;
(5)具有较为稳定的膜层性能,其安全性也非常高。  
PVD 技术更多的适用于成型、冲压、拉伸等模具,车刀、钻头等刀具以及精密零配件等。在对模具进行涂层技术的处理之后,可促使抗磨力、硬度得到有效提升,同时还可促使摩擦系数降低,从而促使工件的使用寿命得以延长,通常情况下,与未处理过的工件比较,其寿命能够增加 3-10 倍。截至目前为止,较常见的涂层主要包括:TiCN、CiN等,各种涂层处理技术,其所具备的用途和特性有明显差异。

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